О технологии PVD

PVD (Physical Vapor Deposition) — физическое осаждение из паровой фазы. Технология основана на переводе материала в состояние пара с последующей конденсацией на изделии в виде тонкой пленки.

Метод впервые описан в 1966 году, но его истоки уходят в XIX век — от экспериментов Фарадея и Эдисона до первых промышленных применений. Сегодня PVD позволяет получать покрытия толщиной от 1 Å до сотен микрон для машиностроения, электроники, медицины и дизайна.

Применение PVD покрытий

• Упрочняющие покрытия для деталей машин
• Защита пресс-форм и штампов
• Детали трения и гидравлики
• Золотниковые пары, авиационные двигатели
• Режущий инструмент: сверла, фрезы, метчики, развертки
• Оптические покрытия и микроэлектроника
• Декоративные покрытия

Типы установок PVD

1. Вакуумное термическое испарение – простота или высокая чистота (в зависимости от метода).
2. Катодное распыление (Sputtering) – высокая скорость и универсальность.
3. Ионное плазменное напыление – отличная адгезия и плотность покрытия.
4. Дуговое испарение – сверхтвердые покрытия, высокая производительность.

Сравнительная таблица методов

Метод	Энергия частиц	Качество пленки	Скорость	Стоимость	Применения
Термическое испарение	Низкая	Средняя/Низкая	Средняя	Низкая	Оптика, декор, электроника
Магнетронное распыление	Средняя	Отличная	Высокая	Средняя/Высокая	Инструмент, оптика, декор
Дуговое испарение	Очень высокая	Превосходная	Очень высокая	Высокая	Сверхтвердые покрытия

Преимущества сотрудничества с ООО «ТВС»

О компании